半导体行业打开增量空间，高频科技先进超纯水工艺提供行业驱动力

半导体是电子产品的核心元件,是整个信息产业的发展基石。从应用领域来看,随着电子产品的迭代升级,半导体在PC、消费类电子、手机、汽车电子等电子产品中的需求大幅度增长,半导体产业呈现较好增长态势。

2023年开年以来,我国各地相继颁布了一系列半导体产业扶持政策,为中国半导体产业发展提供了强有力的政策支持;此外,随着ChatGPT爆火,AI技术新浪潮开启又一轮竞争新赛道!半导体作为AI算力核心,成顶层博弈焦点,进一步提振行业复苏,打开增量空间。可以说,在政策支持、科技公司布局AI大模型等多重利好事件的综合作用下,我国半导体行业有望在2023年开启新一轮强劲市场增长!

半导体复苏拉动下游需求,超纯水行业机遇和挑战并存

在整个半导体产业来看,处于产业链最上游的半导体设备产业起着举足轻重的作用。半导体制造设备有十一类,包括光刻机、过程检测设备、刻蚀设备、薄膜沉积设备、离子注入设备、CMP设备、清洗设备、氧化退火设备、其它晶圆制造设备九类前道工艺设备,测试设备和封装设备两类后道工艺设备。这其中,清洗设备不可或缺,清洗贯穿了芯片制造的全产业链,也是重复次数最多的工序。半导体工厂生产和清洗集成电路芯片及封装、液晶显示器、高精度电路板、光电器件等各种电子器件的时候,都需要用到超纯水。

随着半导体产业深度复苏,半导体产能或爆发性增长,随之而来的就是清洗需求量的同步增加,超纯水市场需求将持续攀升!此外,先进制程下晶圆制造循环工序增多,清洗步骤数量也随之增加。据SEMI统计数据,在80nm~60nm制程中清洗工艺共有约100个步骤,而到了20nm~10nm 制程中清洗工艺增加到200个步骤以上。这也将直接带动清洗步骤的增加,加速超纯水的用量增加!可以说,基于庞大的市场需求,超纯水将迎来新一轮发展契机。

超纯水行业承接半导体复苏利好的同时,也面临两大挑战。其一,当集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也就越高,背后的制备工艺愈加繁复,对超纯水系统的要求也更为严苛。其二,半导体企业对降本增效、提升水资源利用率的需求,给超纯水企业提出了新要求。中国半导体行业吸收了27%的工业用水,而且半导体制程越先进,对超纯水的消耗也就越大。高效可靠、以价值赋能的水资源管理方案,不仅可解企业眼前的燃眉之急,更对长期可持续发展具有深远意义。众多头部半导体企业已经意识到此点,超纯水企业是否拥有先进的循环再生解决方案,成为半导体企业寻求合作时的重要考量要素。

高频科技立足先进超纯水工艺,助力半导体可持续发展

作为行业领先的本土超纯水工艺技术企业,高频科技专注于芯片、显示等半导体高端制造业二十多年,为半导体高端制造等行业客户提供领先的超纯水与循环再生解决方案及装备。高频科技研发的超纯水系统,涉及超过18项专业处理工艺环节,8次增压提升,以行业性的应用创新成果,保证产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%(PPT级别——万亿分之一),不断满足半导体行业日趋提升的用水需求。

除了水质纯度要求,超纯水系统的稳定同样对于芯片制造至关重要。高频科技通过合理的终端材料和规格选择、系统管路设计的优化,以及应用先进的超纯水装置控制系统,确保超纯水系统和水质的稳定,为半导体芯片生产保驾护航。

除此之外,为提升工业用水效能,高频科技依托自有优秀半导体水系统专家,在确保超纯水水质纯度稳定达标的基础之上,研发交付了超过30种可选回用水工艺技术,包括砂滤及碳滤器反洗水回用、砂滤及碳滤器正冲水回用、反渗透浓缩水回用、EDI和UF浓缩水回用、反渗透冲洗水回用、冷却塔排放水回用、低浓度有机废水回用等,已实现水制程回收率达75%-90%,助力企业降本增效,实现可持续发展。

半导体产业既是高科技产业的基础,又是全球经济最重要的组成部分之一!正因如此,在政策支持方面,多国已将半导体视为战略发展领域。一方面,半导体行业健康发展,上下游共同成长是关键;另一方面,半导体产业而言,超纯水的纯度是确保高效生产的基石之一,可循环再利用方案是可持续发展的基础。高频科技立足高端领先,不断推进超纯水工艺革新,提供高标准、高价值、高效益的解决方案,为半导体产业发展注入驱动力,助推半导体国产化提速前行!

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